钌靶
High-purity Ru sputtering target with fine, uniform grains.
产品详情
高纯钌靶晶粒细小均匀，致密度 ≥99.5%，适用于磁记录与半导体阻变存储薄膜沉积。wfwfwe
Fill Requirements Form
带 * Fields marked are required; our technical experts will contact you soon
Personal Information Consent Statement
尊敬的用户，感谢您使用希雨科技（苏州）有限公司（以下简称"我们"）的服务。在您填写并提交需求表单前，请您仔细阅读并同意本同意书：
一、信息收集范围
我们将收集您主动填写的以下信息：姓名、手机号码、单位/公司名称、电子邮箱、所在地区、需求详述内容。短信验证码用于验证手机号有效性。
二、信息使用目的
1. 用于识别您的身份并建立服务沟通通道；
2. 用于响应您的技术咨询需求，提供产品选型建议和方案；
3. 用于必要时向您发送产品资讯和服务通知。
三、信息存储与保护
您的信息将存储于我们安全的服务器中，我们采取合理的技术和管理措施保护您的个人信息安全。未经您同意，我们不会向任何第三方分享、出售或泄露您的个人信息。
四、信息保留期限
在您咨询需求处理完毕后，我们将根据法律法规要求保留必要的信息记录，超期后将予以删除或匿名化处理。
五、您的权利
您有权随时要求查阅、更正、删除您的个人信息。如需行使上述权利，请联系我们：xiyu@hoperain.cn 或致电 400-8838-611。
六、同意
勾选"I have read and agree to"即表示您已充分理解并同意本同意书的全部内容。
简体中文
WeCom Service
WeChat Official
Copyright © 2026 Hoperain Technology Co., Limited. All Rights Reserved. Hoperain Precious Metals (Suzhou) Co., Ltd. 苏ICP备2026030501号-1 Sitemap
HQ: Suzhou, China · XJTU Shanghai Institute Suzhou Branch R&D: No.28 Fuhua Rd, Jiading, Shanghai, China
HQ: Suzhou, China · XJTU Shanghai Institute Suzhou Branch R&D: No.28 Fuhua Rd, Jiading, Shanghai, China
