半导体溅射靶材用高纯贵金属制品
Abstract: 半导体溅射靶材用高纯贵金属制品，纯度达5N级。
项目背景
客户半导体镀膜工艺需要5N级高纯贵金属靶材。
解决方案
依托自有提纯产线，提供5N级金、铂、钯靶材，晶粒度与致密度双重控制。
项目成果
靶材利用率提升至85%，客户镀膜均匀性达标。
Editor: Hoperain · Source: Hoperain
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